В Москве создали уникальное оборудование для микросхем

Москва. 22 марта. INTERFAX.RU - Мэр Москвы Сергей Собянин сообщил, что компания-резидент ОЭЗ "Технополис Москва" создала первый в РФ фотолитограф с разрешением 350 нанометров.

"В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе - Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства", - написал он в своем телеграм-канале в субботу.

Мэр отметил, что российский фотолитограф создан в партнерстве с белорусским заводом. Также отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. "Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер - мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром", - добавил Собянин.

По его словам, на фотолитограф уже есть заказчик. Технологические процессы адаптируют к особенностям производства конечного потребителя.

Также в настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.