Компания Vistec и Московский государственный институт электронной техники (Технический университет) начали рабо¬ту над совместным проектом в области электронно-лучевой литографии

14 декабря 2009 - Business Wire - Компания Vistec и Московский государственный институт электронной техники (Технический университет) начали рабо¬ту над совместным проектом в области электронно-лучевой литографии

14 декабря 2009 – Mосква, Россия / Йена, Германия, Business Wire

Компания Vistec Electron Beam GmbH с большим удовлетворением сообщает, что она привлечена к участию в реализации амбициционного литографического проекта совместно с известным Московским государственным институтом электронной тех¬ники (МИЭТ). МИЭТ, являющийся одним из ведущих современных университетов и исследовательских институтов в России, и немецкая компания Vistec Electron Beam GmbH – передовой изготовитель и поставщик электронно-лучевых установок экспо¬нирования – намерены сотрудничать в рамках высокотехнологичного проекта по производству фотошаблонов, который недавно стартовал в России.

«После запуска и наладки технологической линии Центр проектирования и из¬готовления фотошаблонов (на площадях МИЭТ) сможет снабжать отечественную полупроводниковую промышленность и научно-исследовательские институты фото¬шаблонами, изготовленными по передовой технологии и применяемыми для самых разнообразных прикладных задач», - заявил Владимир Беспалов, первый проректор МИЭТ. «Наряду с изготовлением фотошаблонов важную роль в нашем новом Цен¬тре играет образовательная и научная деятельность. МИЭТ специально выбрал установку электронолитографии с изменяемым сечением электронного пучка ком¬пании Vistec, так как эта система отличается не только превосходными лито¬графическими параметрами, высокой степенью гибкости и зарекомендовавшей себя на практике надёжностью, но и высокой комфортностью обслуживания», добавил Владимир Беспалов.

Выпущенная компанией Vistec установка электронолитографии с изменяемым сече¬нием электронного пучка и с ускоряющим напряжением в 50кВ оснащена полностью автоматической системой загрузки / разгрузки подложек. Установка подготовлена для экспонирования разнообразных типов и размеров подложек.

«Мы очень горды тем, что нам представилась возможность сотрудничать с МИЭТ и принять участие в реализации проекта по производству фотошаблонов», заявил Вольфганг Дорл, генеральный директор компании Vistec Electron Beam GmbH. Электронно-лучевая установка, которую мы недавно отправили в МИЭТ отражает продолжение развития тех долголетних традиционных коммерческих отношений, которые наша компания имеет с Россией. Мы надеемся, что всё это позволит открыть нам новые, интересные возможности на быстро развивающемся россий¬ском рынке.»

Информация для редакторов

МИЭТ

Московский институт электронной техники (МИЭТ) был образован в г. Зеленограде в 1965 году.

Сегодня Московский государственный институт электронной техники (технический уни¬верситет) остаётся ведущим вузом России в сфере подготовки специалистов в области высоких наукоемких технологий. В университете функционирует 9 факультетов, 32 основных и 17 базовых (на ведущих предприятиях электроники) кафедр, аспирантура и докторантура. В вузе работают 650 научно-педагогических работников, в том числе 3 академика и 3 член-корреспондента Российской академии наук, 95 профессоров и докторов наук, 290 кандида¬тов наук, доцентов, обучаются 6500 студентов, более 300 аспирантов и докторантов.

В 2006 году МИЭТ вошел в число первых 17 вузов - победителей конкурса нацпроекта «Образование», внедряющих инновационные образовательные программы.

Vistec Electron Beam Lithography Group

Консорциум Vistec Electron Beam Lithography Group – это глобальный изготовитель и по¬ставщик электронно-лучевых установок экспонирования, применяемых в таких передовых отраслях как в нанотехнологии, биотехнологии и в фотонике. Литографические установки, выпущенные консорциумом Vistec, широко используются всеми крупными изготовителями полупроводниковых изделий для получения эталонных фотошаблонов и в области элек¬тронно-лучевой литографии с непосредственным формированием изображения для маке¬тирования и для оценки дизайна микросхем (СБИС). В состав консорциума Vistec Electron Beam Lithography Group входят фирмы Vistec Electron Beam GmbH и Vistec Lithography Inc.

Vistec Lithography

Фирма Vistec Lithography разрабатывает, изготовляет и продаёт электронно-лучевые установки, работающие с острофокусированным лучом (пучок Гаусса). Литографические системы фирмы находят всемирное признание в передовых научно-исследовательских ла¬бораториях и университетах. Фирма Vistec Lithography расположена в городе Ватерфлит недалеко от Эльбаний - столицы федерального штата Нью-Йорка (США).

Vistec Electron Beam

Фирма Vistec Electron Beam выпускает установки электронолитографии с изменяемым сече¬нием электронного пучка, которые успешно используются во всём мире ведущими изготови¬телями полупроводниковых изделий и многими исследовательскими институтами. Её инно¬вативные электронно-лучевые системы применяются для производства микросхем (СБИС), в интегральной оптике, а также для чисто научных и промышленных исследований. Фирма Vistec Electron Beam находится в городе Йена (Германия).

Все сообщения прессы, а также соответстующий иллюстративный материал Вы можете найти под

www.vistec-semi.com.

Если Вам понадобится другие форматы или иллюстративный материал, просим обращаться в наш адрес:

Контакт:

Ines Stolberg Vistec Electron Beam GmbH Vistec Lithography, Inc.

Manager Strategic Marketing Litho Goeschwitzer Straße 25 125 Monroe Street

Tel.: +49(0)3641/651955 D-07745 Jena Watervliet, NY 12189 (USA)

Fax: +49(0)3641/651922

pr@vistec-semi.com

www.vistec-semi.com

PR Agency

Tower PR